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ホスフィン官能基の構造・電子性・合成・反応・配位子応用まで徹底解説

ホスフィン(phosphine)は、三価のリン(P)原子に3つの置換基(R)が結合した官能基で、一般式は –PR₃ で表されます。
有機化学では還元剤として、また有機金属化学では金属配位子(リガンド)として極めて重要な役割を担っています。

この記事では、ホスフィンの基本構造、電子的性質、主な合成法、反応性、配位子としての機能、さらにはクロスカップリングやアズール反応など触媒反応への応用について解説します。

ホスフィンの構造と特徴

基本構造

R₃P(例:PPh₃、PMe₃)
  • 三価のリン原子:1つの孤立電子対を持つ
  • R = アルキル基、アリール基、水素 など
  • 四面体に近いが、Nに比べてPの結合角は小さい(約95–100°)

ホスフィンとアミンの違い

  • 同族元素の窒素と類似するが、Pの電子雲は広く、π供与能が低い
  • P–R結合は極性が低く、C–Nよりも安定性に劣る

ホスフィンの電子特性と分類

電子供与性(σドナー)とπ受容性(πアクセプター)

  • 孤立電子対によるσ供与性 → 金属と配位しやすい
  • π受容性(空軌道への電子供与)も一部あり → 配位子設計に利用

立体特性:円錐角(cone angle)

  • 置換基の嵩高さにより、配位子の立体的かさばり具合を数値化
  • 例:PPh₃(145°)、P(t-Bu)₃(182°)

代表的ホスフィン化合物

  • トリフェニルホスフィン(PPh₃):最も基本的な芳香族ホスフィン
  • トリメチルホスフィン(PMe₃):強いσドナーで反応性高い
  • ビスホスフィン:2つのPR₃基を架橋した配位子(例:DPPP, DPPF)
  • キラルホスフィン:不斉合成に用いられる(例:BINAP, (R)-Josiphos)

ホスフィンの合成法

① PCl₃のアルキル化

PCl₃ + 3 R–MgBr → PR₃ + 3 MgBrCl

② アリールリチウムとの反応

PCl₃ + 3 PhLi → PPh₃

③ 工業的には加水素化リン(PH₃)を中間体に使用

  • 毒性・爆発性が高く、実験室スケールでは用いられにくい

ホスフィンの反応性

① 酸化反応

PR₃ + O₂ → OP(=O)R₃(ホスフィンオキシド)
  • 空気酸化されやすく、取り扱いには不活性雰囲気が必要

② 還元剤としての使用

  • アジド → アミン、エポキシド開環、アシル化合物還元 など
  • Wittig反応ではホスホニウム塩を形成 → オレフィン合成に利用

③ リン–カルベン類縁体の中間体形成

Ph₃P=CH₂ → Wittig試薬

ホスフィンの配位子としての機能

金属中心との結合

  • σ供与性により金属の安定化
  • π受容性により金属中心の電子密度調整

配位子チューニングの自由度

  • 電子・立体の両面で細かな設計が可能

代表的金属–ホスフィン錯体

  • [Rh(PPh₃)₃Cl]:水素化反応触媒
  • [Pd(PPh₃)₄]:クロスカップリング反応

ホスフィンの触媒応用例

① スズクロスカップリング(Stille反応)

Ar–SnBu₃ + Ar'–X + Pd(0)/PR₃ → Ar–Ar'

② スズレス反応(Suzuki–Miyaura反応)

Ar–B(OH)₂ + Ar'–X + Pd(0)/ホスフィン → Ar–Ar'

③ ヘック反応

Ar–X + CH₂=CH–R + Pd(0)/ホスフィン → Ar–CH=CH–R

④ 不斉触媒反応

  • BINAP触媒を用いた不斉水素化・不斉アルドール反応

ホスフィンの安全性と取扱い

  • 空気中で酸化されやすい → 不活性雰囲気下で保管
  • 低級ホスフィン(例:PH₃、PMe₃)は悪臭・毒性・可燃性に注意
  • ホスフィンオキシドは安定・無毒で廃棄可能

まとめ:ホスフィンは電子制御・反応設計に欠かせない有機リン官能基

  • ホスフィン(–PR₃)は三価のリンを中心に持つ有機官能基
  • 配位子・還元剤として有機合成・触媒反応に広く応用される
  • 電子・立体の設計自由度が高く、官能基選択性や不斉誘導が可能
  • 医薬品合成・有機金属化学・材料化学で不可欠な構造単位

次回は「ホスホン酸エステル(–P(=O)(OR)₂)」をテーマに、ホスホン酸との違い、反応性、用途、神経毒性との関係まで解説していきます。

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